半導體製程說明|從材料開始,6步驟帶你認識晶圓誕生的製作過程

半導體製程說明|從材料開始,6步驟帶你認識晶圓誕生的製作過程
 

半導體製程說明|從材料開始,6步驟帶你認識晶圓誕生的製作過程

 
半導體製程會經過哪些步驟?本文從半導體是什麼開始,帶你認識常見的半導體材料有哪些,說明日常生活中的半導體用途為何,透過 6 個步驟介紹半導體元件製造過程,最後推薦專業的半導體製程設備廠商「霖豐」。

一、半導體是什麼?半導體元件又是什麼?

 

(一)何謂半導體?生活中無處不在的半導體用途有哪些?

 
半導體是一種具有特殊導電性的材料,它的電傳導性介於導體(如銅、銀)和絕緣體(如橡膠、玻璃)之間,因此被稱為「半導體」。

半導體可以透過外在電場、光照、溫度等因素來控制導電性,藉由導電率變化來處理各種不同且複雜的資訊與指令,同時搭配電路設計和電腦運算邏輯,製作出我們生活中的各種電子產品,例如手機、電腦、汽車、電視、冰箱、洗衣機等。

此外,半導體製成的自動化設備也被廣泛用韻在工業和製造業中,包含機械手臂、智能機器人等設備,都有半導體的存在。
 

(二)認識積體電路(IC)的最小單位:半導體元件

前段提及,半導體存在於生活中常見的電腦、手機等電子產品中,其原理是透過將無數個半導體製作成的「半導體元件」結合成「積體電路」(IC 晶片),以控制電流通行、處理資訊。

根據電流控制的方式不同,半導體元件主要可分為 2 大類:
 

1. 二極體(Diode)

二極體是一種具有單向導電性的半導體元件,只允許電流單向流動。舉例而言,它就像是水庫的閘門,打開時會讓水往外流,無法讓水往水庫內流動。
 

2. 電晶體(Transistor)

電晶體則是可以讓電流雙向通過的半導體元件,除了控制電流通過外,電晶體同時也具備電流放大、調節、穩定等多種功能,因此被廣泛運用在各種電路設計中。
 
 

二、半導體元件製造需要哪些材料?常見半導體材料介紹

電半導體材料依照原料性質可以分為「元素材料」和「化合物材料」2 種,以下帶大家認識常見的半導體材料有哪些。
 

(一)常見的元素半導體材料

電元素半導體材料是指由「單一元素」製作成半導體,其中最常聽到、應用最廣泛的元素就是「矽」(Silicon,化學符號 Si)。

因為矽的取得相對容易且成本便宜,在半導體技術發展的初期成為主流材料之一,直到現在多數廠商仍使用矽作為主要的半導體製作材料。

除了矽以外,鍺(Germanium,化學符號 Ge)也是常見的元素半導體之一,不過由於鍺的提純較為不易,且穩定性較差,因此逐漸被矽取代。
 

(二)常見的化合物半導體材料

電隨著應用需求的提升與科技發展,開始出現使用 2 種元素以上組成的「化合物半導體」,根據元素組合的成分不同,可以賦予半導體元件更豐富的控制特性,讓半導體可製造的電子產品更為廣泛。

常見的化合物半導體材料包含:
 
  • 砷化鎵(化學式 GaAs):砷化鎵具有電子移動速度較快的特性,而且耐高溫與高電壓,通常被運用在光通訊傳輸、高頻率電子產品中。
 
  • 氮化鎵(化學式 GaN):因為氮化鎵半導體可以承載的能量比矽半導體更高,在高功率傳輸上受到矚目,因此常被運用在電動車的製造中,幫助降低充電時間。
 
  • 碳化矽(化學式 SiC):碳化矽在高溫下能維持穩定的運作,且電流通過時產生的熱能散逸相對較低,降低能源消耗的特性使其經常被運用在電動車充電樁上。
 
 

三、半導體製程很複雜?半導體製程順序詳細解說!

認識完半導體原料後,接著將介紹半導體製作流程,從晶圓的誕生到測試封裝會經過哪些步驟呢?
 
半導體製作程序說明
 

半導體製造流程第 1 步:製作晶圓

透過高溫熔煉等方式將原始材料的表面雜質、有機殘留物等髒污清除後,保留乾淨純粹的原始材料,接著將材料提煉,透過蒸餾純化產生「多晶矽」。

將多晶矽與硼酸、磷放入高溫鍋中熔煉後,將單晶矽棒進入熔煉液體中旋轉拉起,融化的多晶矽會附著在單矽晶棒表面,冷卻凝固後就會變成排列整齊的單晶矽棒。

剛製作完成的單晶矽棒表面並不平整,因此會需要透過研磨加工調整成為符合晶圓尺寸規格的圓柱形。

矽棒調整成合適尺寸後,就可以切成薄片,也就是我們俗稱的「晶圓」。不過晶圓經過切割,表面相當粗糙,必須經過拋光、研磨和仔細清潔等程序後,才能用於晶片製造。
 

半導體製造流程第 2 步:晶圓加工

接下來就會進入到最重要的步驟「晶圓加工」,這是在晶圓上刻出電路設計圖的重要步驟,晶圓加工又可以分為以下 5 個階段:
 
晶圓加工的 5 個階段
 

1. 化學氣相沉積(CVD)

將氣體化學物質送到裝有晶圓的設備內,氣體會在晶圓表面上產生化學反應,形成一層二氧化矽薄膜。
 

2. 塗上光阻劑

在鋪了二氧化矽薄膜的晶圓上,均勻塗上一層光阻劑,形成光阻膜,讓電路圖可以順利拓印在晶圓上。
 

3. 曝光與顯影

將電路圖覆蓋在紫外光罩上,紫外光照射後,被照射的光阻劑會和紫外光產生光化學反應,接者使用顯影劑浸泡晶圓片,清洗被照射到的光阻劑,保留未被照射到的光阻劑,透過光阻劑在晶圓上畫出電路圖模板。
 

4. 蝕刻

利用酸性或鹼性的溶液,依照光阻層模板侵蝕二氧化矽層,在晶圓上雕刻出電路設計圖。
 

5. 清除光阻劑與晶圓清潔

最後,透過化學、熱力或機械方式清除殘留的光阻劑,並利用超音波清洗、無機溶劑或表面活性劑等方式,將晶圓片清洗乾淨就完成晶圓加工了!
 

半導體製造流程第 3 步:離子植入

由於純淨的矽不會導電,因此若想讓刻完電路的晶圓產生導電性,需要在晶圓中加入雜質,讓晶圓成為可以控制電流的重要零件,此時就需要「離子植入」這個步驟。

在離子植入的步驟中,會將晶圓放入儀器中,透過電場加速特定離子,將離子作為雜質射進晶圓中,搭配先前運用到的光阻和顯影手法,也能將離子植入到指定範圍內,達到不同的導電效果。

原本排列整齊的矽晶體晶圓片,會因為離子闖入造成結構混亂,此時就必須將晶圓片加熱,讓晶圓中的矽和離子重新排列整齊,離子也會平均分佈在植入的區域中。
 

半導體製造流程第 4 步:測試晶圓

一片晶圓上會由許多格狀的裸晶組成,在測試階段,測試廠會使用探針檢查每個裸晶的電氣特性,如果表現不佳,裸晶就會被畫上標記。
 

半導體製造流程第 5 步:切割晶圓

檢查完畢的晶圓,會被貼在一片圓形膠帶上,並送進機器切割,將每顆裸晶分離,品質良好、通過測試的裸晶就會被挑出來,進入到封裝階段。
 

半導體製造流程第 6 步:封裝裸晶

裸晶會被黏在 IC 載板上,並透過焊接接。通裸晶與載板的電路,將裝有裸晶的載板送進模具中,注入融化的環氧樹脂,待環氧樹脂冷卻硬化後,就成為裸晶最堅固的保護膜。

最後,只要在封裝完的晶片上印上製造商、料號、批號等晶片資訊,就大功告成了!
 
 

四、半導體製程設備推薦|提供豐富製程設備與零件的霖豐

半導體晶圓製作是相當複雜且細緻的過程,在每個步驟都要精準控制化學液體的用量,才能確保晶圓成品的品質與穩定性,因此,一套精準且專業的製程設備是不可或缺的。

霖豐成立於 1984 年,早期專注於各類化學品的買賣,而後進一步拓展事業版圖,開始接觸到矽晶製程,替國外工程儀器設備代理台灣銷售業務,包含半導體原料、化學用品、化學品自動供應系統、化工耐酸鹼泵浦、MFC 流量計等製程與檢測設備。

霖豐秉持著「誠信、專業、共榮」的精神,不斷追求專業進步,也與客戶合作開發全新技術,並嚴守商業機密,深得客戶信賴。

四十多年來,霖豐替台灣許多半導體產業引進專業的製程設備與零組件,更利用對化學品特性的熟悉與了解,替工廠設計廢水與化學廢棄物回收管線配置,幫助企業降低化學汙染、打造綠色供應鏈。
 
 

點擊下方按鈕,讓霖豐提供您多樣化的專業半導體製程設備。

关闭